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激光芯片開(kāi)封機(jī) SMART ETCH UV

簡(jiǎn)要描述:芯片激光開(kāi)封機(jī)的工作原理是利用高能激光蝕刻掉芯片或者電子元器件的塑封外殼,從而光學(xué)觀測(cè)或者電氣性能測(cè)試提供了可能性,以便 于實(shí)現(xiàn)X射線等無(wú)損檢測(cè)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的功能。 激光開(kāi)封技術(shù)也可以在不破壞芯片或者電路的整體功能的前提下,去除局部的塑封材料,進(jìn)行測(cè)試甚至修復(fù)實(shí)驗(yàn)。與化學(xué)開(kāi)封技術(shù)相比, 激光開(kāi)封更加高效,同時(shí)避免了減少?gòu)?qiáng)酸環(huán)境暴露。

  • 更新時(shí)間:2024/12/5 15:40:41
  • 訪  問(wèn)  量:3040
  • 產(chǎn)品型號(hào):SMART ETCH UV
詳細(xì)介紹
 
Smart Efficient
激光開(kāi)封解決方案
助力FA實(shí)驗(yàn)室高效分析
 

 

設(shè)備特點(diǎn)
*激光與視覺(jué)的完美結(jié)合。
*簡(jiǎn)潔的用戶界面
*易于使用和學(xué)習(xí)
*專(zhuān)業(yè)開(kāi)封軟件
*傻瓜試?yán)L制圖形
*提供超穩(wěn)定的激光開(kāi)封工藝
*沒(méi)有損壞電線
*適用銅、金、銀等鍵合線開(kāi)封
*實(shí)時(shí)可見(jiàn)開(kāi)封過(guò)程
 
 
基本原理:
芯片激光開(kāi)封機(jī)的工作原理是利用高能激光蝕刻掉芯片或者電子元器件的塑封外殼,從而光學(xué)
觀測(cè)或者電氣性能測(cè)試提供了可能性,以便于實(shí)現(xiàn)X射線等無(wú)損檢測(cè)無(wú)法實(shí)現(xiàn)的功能。
激光開(kāi)封技術(shù)也可以在不破壞芯片或者電路的整體功能的前提下,去除局部的塑封材料,進(jìn)行
測(cè)試甚至修復(fù)實(shí)驗(yàn)。與化學(xué)開(kāi)封技術(shù)相比,激光開(kāi)封更加高效,同時(shí)避免了減少?gòu)?qiáng)酸環(huán)境暴露。
 
 
應(yīng)用領(lǐng)域:
去除半導(dǎo)體芯片的塑封外殼,PCB板截面切割,以及其它類(lèi)似的破壞
性物理試驗(yàn)或失效分析場(chǎng)景。
 
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
*多種波長(zhǎng)激光可選、更寬的工藝窗口;
*德國(guó)的高精密激光掃描頭;
*激光系統(tǒng)與CCD視覺(jué)系統(tǒng)同軸共焦,實(shí)時(shí)觀測(cè)激光掃描過(guò)程;
*可直接導(dǎo)入X-Ray或者超聲波掃描圖像,為復(fù)雜定點(diǎn)開(kāi)封提供支持;
*強(qiáng)大的軟件功能,保證了定位、區(qū)域標(biāo)定、聚焦、參數(shù)設(shè)定、 條碼繪制等功能得以簡(jiǎn)潔可靠地實(shí)現(xiàn);
*高性能煙塵過(guò)濾系統(tǒng),可過(guò)濾98%以上0.3um直徑的環(huán)氧樹(shù)脂顆粒。
 
技術(shù)參數(shù):
型號(hào)
Smart Etch UV
最大掃描范圍
110mm x 110mm
激光類(lèi)型
單點(diǎn)/中心加壓
實(shí)時(shí)操作模式
同軸和共焦(所見(jiàn)即所得)
激光波長(zhǎng)
355nm
樣品尺寸
0.5mm - 70mm
功率
7W at60kHz
脈沖能量
125μJ
輸出功率范圍
1% ~ 100%
設(shè)備安全等級(jí)
Class I (互鎖)
脈沖寬度
Pulse Width (nominal) 10 ±
5ns @ 40 kHz 20 ± 5ns @
100 kHz
煙塵過(guò)濾器
1.8kPa,0.3µ的顆粒
光束質(zhì)量
M²≤ 1.2
設(shè)備尺寸
730 x 1100 x 1600mm
單次開(kāi)封深度
0.01mm~1mm
氣體
壓縮空氣或氮?dú)?、氣?/span>0.3MPa
開(kāi)封速度
≥ 3000mm/s ;
掃描速度13000mm/s
相機(jī)
2000萬(wàn)像素彩色照相機(jī)
激光頻率
Single Shot to 200 kHz
重量
280KG
 
 
硅凝膠應(yīng)用案例Decap Application
 
 
 
應(yīng)用案例Decap Application
 
 
 
 

 


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